南网北京研究院2026年TMR磁敏感薄膜制备专用靶材采购项目
项目编号:CG3100022002360706
项目拟采购一批高纯度的磁控溅射专用靶材及背板,主要用于磁性传感、磁性存储、半导体或相关研发领域的物理气相沉积(PVD)工艺,在真空或受控气氛环境下,通过直流(DC)、射频(RF)磁控溅射方式制备各种功能性薄膜。
项目编号:CG3100022002360706
项目拟采购一批高纯度的磁控溅射专用靶材及背板,主要用于磁性传感、磁性存储、半导体或相关研发领域的物理气相沉积(PVD)工艺,在真空或受控气氛环境下,通过直流(DC)、射频(RF)磁控溅射方式制备各种功能性薄膜。